硅片采用的磨料主要為金剛砂，因為其莫氏硬度表為9.5，僅次于金剛石，且導熱性良好，高抗氧化能力。如今研磨液的懸浮、分散性能并沒有完全滿足生產(chǎn)需要，若使用性能不佳的研磨液在研磨過程中造成較為嚴重的切片磨損與缺陷，就會對后續(xù)加工程序產(chǎn)生非常不利的影響，甚至造成晶片損壞，影響生產(chǎn)效率造成重要損失。

良好的研磨液應該是懸浮性好，分散均勻，PH值粘度適中。如果研磨液性能不佳，就會導致磨料與磨盤的接觸不均勻，進而造成應力不均，出現(xiàn)碎片，劃傷等嚴重影響硅片平整度的問題。要想得到穩(wěn)定分散的研磨液，就必須控制體系中zeta電位絕對值處于一個較高的位置。

分散劑與活性劑的加入對金剛砂懸浮性的影響。

分散劑的作用是減少分散體系中各種粒子的聚集程度，在制備金剛砂懸浮分散體系時加入分散劑可以增大體系的分散懸浮性并保持體系的相對穩(wěn)定。分散劑對金剛砂磨料分散作用的機理是它吸附在顆粒表面，從而增大粒子表面電位，進而增大相互之間的排斥作用，顆粒表面必須達到一定的吸附量才能使磨料體系穩(wěn)定存在，所以分散劑的加入量有一個最佳值，加入太多貨加入不足都會影響磨料的懸浮分散性。

選用合適的分散劑把研磨液的分散性與懸浮穩(wěn)定性調整到最佳狀態(tài)，才能發(fā)揮出研磨液最佳作用。

內(nèi)容原創(chuàng)作者：澳達   原創(chuàng)內(nèi)容鏈接：http://www.mifengshop.com/447.html，轉載請注明出處